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四氟化(hua)碳

純(chun)度(du)︰99.999%

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基本(ben)信(xin)息(xi)︰

 四氟化(hua)碳 純(chun)度(du)︰99.999%

 中文名稱︰四氟化(hua)碳

 中文別名︰四氟甲(jia)烷

 CAS號︰75-73-0

 EINECS︰200-896-5

 分子式︰CF4

 分子量︰88

 物(wu)化(hua)性質(zhi)︰- 熔點(dian):-184℃

 相(xiang)對(dui)密度(du)︰1.603

 溶解性︰不溶于水(shui) 

用途︰用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也(ye)用作(zuo)激光(guang)氣(qi)體(ti)及制冷劑

物(wu)理性質(zhi)︰


化(hua)學性質(zhi)︰

 

相(xiang)對(dui)分子量88.00。在(zai)常溫下,四氟化(hua)碳是(shi)無色、無臭、不燃的易(yi)壓縮性氣(qi)體(ti),揮發性較(jiao)高,是(shi)最穩(wen)定的有機化(hua)合物(wu)之一,不易(yi)溶于水(shui)。

 

在(zai)900℃時,不與銅(tong)、鎳、鎢(wu)、鉬反應,僅在(zai)碳弧溫度(du)下緩慢(man)分解,微溶于水(shui),在(zai)25℃及0.1Mpa下其溶解度(du)為(wei)0.0015%(重量比),然而與可(ke)燃性氣(qi)體(ti)燃燒時,會分解產生有毒氟化(hua)物(wu)。

四氟化(hua)碳是(shi)目(mu)前微電子工業中用量最大(da)的等離子蝕chun)唐qi)體(ti),其高純(chun)氣(qi)及四氟化(hua)碳高純(chun)氣(qi)配高純(chun)氧氣(qi)的混合體(ti),可(ke)廣泛應用于 、二氧化(hua) 、氮化(hua) 、磷(lin) 玻璃及鎢(wu)薄膜(mo)材(cai)料(liao)的蝕chun)獺/span>

 

對(dui)于 和二氧化(hua) 體(ti)系,采(cai)用CF4-H2反應離子刻蝕時,通過調節兩種氣(qi)體(ti)的比例,可(ke)以獲得45︰1的選擇性,這在(zai)刻蝕多晶 柵極上的二氧化(hua) 薄膜(mo)時很(hen)有用。

 

在(zai)電子器(qi)件(jian)表面清洗(xi)、太陽(yang)能電池的生產、激光(guang)技術、氣(qi)相(xiang)絕緣、低溫制冷、泄(xie)漏檢驗劑、控(kong)制宇宙火箭姿態、印刷(shua)電路生產中的去污劑等方(fang)面也(ye)大(da)量使用。

 

由(you)于化(hua)學穩(wen)定性極強,CF4還(huai)可(ke)以用于金屬冶煉和塑料(liao)行業等。

 

四氟化(hua)碳的溶氧性很(hen)好(hao),因此被科學家(jia)用于超深度(du)潛水(shui)實驗代替普通壓縮空氣(qi)。目(mu)前已在(zai)老鼠身上獲得成shai)gong),在(zai)275米到366米的深度(du)內(na),小白鼠仍可(ke)安全脫險。、

 

四氟化(hua)碳有時會用作(zuo)低溫冷卻劑。它可(ke)用于電路板的制造(zao),以及制造(zao)絕緣物(wu)質(zhi)和半(ban)導體(ti)。它是(shi)用作(zuo)氣(qi)體(ti)蝕chun)碳良暗壤胱猶ti)蝕chun)貪妗/span>

四氟化(hua)碳成品應存放(fang)在(zai)陰涼,干燥,通風(feng)的mu)夥磕na),嚴禁(jin)曝曬(shai),遠離熱源。

吸入四氟化(hua)碳的後(hou)果與濃度(du)有xie)兀 ㄍtou)痛、惡心、頭(tou)昏眼花(hua)及心血管系統的破壞(huai)(主要是(shi)心髒)。長(chang)時間接觸(chu)會導致嚴重的心髒破壞(huai)。

四氟化(hua)碳的密度(du)比較(jiao)高,可(ke)以填滿(man)地(di)面空間範圍,在(zai)不通風(feng)的地(di)方(fang)會導致窒息(xi)。





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